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    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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    【レポート】ごみ収集作業員不足について学ぶべき事実

    運搬人不足が深刻。特にドライバーは2026年までに今の3倍不足すると予…

    当社のソリューションを活用することで、 廃棄物収集業者は顧客のニーズに答えることだけでなく、 作業員やドライバーの人数に応じて業務を効率化することができます。 内部調査では、単一の高密度のルートにおいて、 総輸送時間を67%、走行距離を57%削減することができました。 【作業員不足の主な要因】 ■ごみ収集作業員の高齢化 ■ブルーワーカーに対する意識の変化:ごみに対する...

    メーカー・取り扱い企業: Enevo Japan株式会社

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