リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

放電針の無いイオナイザー　ワイドファンタイプ FD-F360

リング状に加工したイオンブレードを採用したイオナイザー

D-F360は、放電針ではなくリング状に加工したイオンブレードを搭載した静電気除去器です。イオンブレードとは、誘電体とその表面に形成した鋸状の微細電極によって構成されており、プラズマ発生ポイントを高密度に有することから、高濃度のイオンを素子全面にわたって効率よく均一に発生させることができます。放電針に比べ低い電圧でイオンを発生させられるため、電界集中による異物の付着が少なく、また、電極部にヒータ...

メーカー・取り扱い企業： フィーサ株式会社 本社営業部、ダイナック事業部、北関東支社、中部支社、大阪支社