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    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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    TEWS社 16ビット D/Aコンバータ TPMC554

    TPMC554は産業・交通向けアプリケーションに最適な高密度16ビット…

    TEWS社のTPMC554は16ビットアナログ出力を32または16チャンネル備えたシングル幅32ビットPMCモジュールです。...■仕様   ・32または16チャンネルD/A、FIFO付   ・ソフトウェア設定出力レンジ:±10V、±5V、±10.8V、0-10V、0-5V、0-10.8V   ・データ設定時間 : 最大10μs   ・波形生成/パターン生成   ・シーケンスタイマー ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナセル

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