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Ni下地用シアンフリー置換金めっき液 『Aurexel DP』
シアンフリー置換金めっき液による均一なAu薄膜の形成が可能!
『Aurexel DP』は、析出均一性、はんだ濡れ性に優れ、中性かつ低温で処理が可能なNi下地用シアンフリー置換型金めっき液です。 【特徴】 ■シアン化合物を含まないめっき液によるAu薄膜の形…
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マイクロバンプ形成用無電解金めっき液 『Aurexel MD』
無電解金めっきにより、面内均一性に優れたマイクロバンプの形成を実現!
『Aurexel MD』は、数μmオーダーのマイクバンプ形成に適した高速無電解金めっき液です。 【特徴】 ■高速還元Auめっき液により数μmオーダーのマイクロバンプ形成が可能 ■シアンを含ま…
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銀エッチング液、銀ナノワイヤーエッチング液『SEAシリーズ』
残渣除去性が高く、サイドエッチングが少ない精細加工が可能な銀合金エッチング液!
『SEAシリーズ』は、LCD やOLED の反射電極、配線形成プロセスにおいて、微細加工可能なAg薄膜加工向けのエッチング液です。 【特徴】 ■低レート化により、μm オーダーの微細パターニン…
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ウェーハ用洗浄液『Frontier Cleanerシリーズ』
ウェーハの微粒子(パーティクル)及び金属不純物を除去。Siウェーハの他、SiCやGaNなどの化合物ウェーハの洗浄に好適です。
『Frontier Cleaner シリーズ』は微粒子(パーティクル)及び金属不純物を同時に除去が可能であり、バッチ式洗浄装置や枚葉式洗浄装置対応のウェーハ洗浄液です。 【特徴】 ■ 酸系…
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透明導電膜エッチング液(アモルファス向け)『ITO-07N』
SiO2、SiNxなど様々な下地膜に対しエッチング残渣無く加工可能なITOエッチング液!
『ITO-07N』 は、FPD製造プロセスにおけるアモルファスITO、IZO 等の高精細パターニングが可能な透明導電薄膜エッチング液です。 【特徴】 ■アモルファス ITO、IZO 等のパター…
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レジスト剥離液・ドライエッチング残渣除去液『JELKシリーズ』
NMP非含有のレジスト剥離液。バンプ形成時の厚膜レジスト剥離にも好適!
一般的なアミン系剥離液よりも剥離能力が高く、アルカリ現像タイプのネガレジストや厚膜のドライフィルムレジストに適用が可能です。 また、各種金属材料に対してダメージが小さく、Al-Cu電極のリフトオフプ…
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フロアーコーチ KOACH F 1050-F(FERENA搭載)
積み木方式で臨機応変に対応が可能!超高性能フィルタ搭載フロアーコーチ
『KOACH F 1050-F』は、連続タイプ「KOACH」の技術を応用し、かつ送風機を背面に移動することにより、床からの全域をクリーン化できるフロアーコーチです。 複数台を組み合わせて対向させ…
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連続コーチ「KOACH R 1050-F」(FERENA搭載)
クリーン空間を必要な分だけ広げることが可能!超高性能フィルタ搭載コーチ
『KOACH R 1050-F』は、横に並べることで、限りなくクリーン空間を横に広げることが可能な連続コーチです。 囲いがないにもかかわらず広い範囲の清浄空間を形成することができます。 清浄度…
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スタンドコーチ「KOACH C 900-F」(FERENA搭載)
局所クリーンの決定版!超高性能フィルタ搭載オープンクリーンベンチ
『KOACH C 900-F』は、テーブル上の作業エリアをクリーン化したい場合に適しており、並び作業、対面作業も可能なオープンクリーンベンチです。 囲いがないにもかかわらず広い範囲の清浄空間を形…
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テーブルコーチ「KOACH T 500-F」(FERENA搭載)
卓上作業に最適なコンパクトタイプ!超高性能フィルタ搭載テーブルコーチ
『KOACH T 500-F』は、手軽に持ち運んで設置できるコンパクトなサイズで、テーブル上を清浄化するスーパークリーンゾーン生成装置です。 囲いがないにもかかわらず広い範囲の清浄空間を形成する…
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