株式会社MSAファクトリー 真空UV照射バッチ炉 PU-201-V型
- 最終更新日：2013-04-24 10:11:13.0
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真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下でのUV・加熱などに最適！
「PU-201-V型」は最高温度200℃対応の真空UV照射バッチ炉です。
小型バッチ炉タイプで、真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発に最適です。
加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。
温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。
●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
基本情報真空UV照射バッチ炉 PU-201-V型
【特徴】
○温度制御範囲：室温～200℃
○ワークサイズ：最大200×200mm
○昇温スピード：100℃/min
○圧力範囲：-100KPa（真空）
○UVランプ出力：メタルハライド120W/cm
●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
| 価格情報 |
- 詳細はお問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 真空、低酸素濃度下での加熱、UV照射少量プロセス品、研究開発 |
カタログ真空UV照射バッチ炉 PU-201-V型
取扱企業真空UV照射バッチ炉 PU-201-V型
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数多いセミカスタムアイテムより選択し、カスタマイズすることにより自社にあった生産機器・治具を低価格にて提供する新システムです。
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