株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。
酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD
窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD
金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu
その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系）、グラフェン膜、グラファイト
＊SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。
＊Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。
＊レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチまで対応可能です。
＊テストパターン付ウェーハ（6インチから12インチ）も仕様により一貫で対応致します。
＊レチクルご支給による、露光/エッチングも承ります。（8インチと12インチ）
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基本情報CZウェーハ 成膜加工
【特徴】
○膜種により2インチから４５０ｍｍウェーハへの成膜が可能
○テストパターン付ウェーハ（6インチから12インチ）に対応
○レチクルご支給による、露光/エッチングも対応（8インチと12インチ）
○レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチまで対応可能
○バックグラインダー：直径5インチ～12インチ
○ダイシング：直径5インチ～12インチ
【12インチ 対応可能膜種】
○酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG
○窒化膜系：DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN
○金属膜系：TaN、Ta、Cu、Al、Al-Si、Al-SiーCu、Ni、W、W-Si-Cu
○その他：Poｌｙ-Si、A-Si、SiC、Low-ｋ（SiOC系、有機化学系）
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カタログCZウェーハ 成膜加工
取扱企業CZウェーハ 成膜加工
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【主な取扱商品】 テスト・モニター用ベアウェーハ(高精度・パーティクルチェック用・COP対策品）、コインロールウェーハ、SOI、拡散ウェーハ、ＳｉＧｅ、GaAs、Ｇｅ，サファイア、石英、等。 各種加工｛成膜・グラインダー(50μm以下も可能）ダイシング・サイズダウン・パターニング・Si再生研磨加工・洗浄加工}も対応可能です。 【CZウェーハ】 ■直径は1インチ〜450mmに対応可能 ■成膜加工可能 ■テストパターン付ウェーハ(4インチ〜12インチ）も対応 ■レチクルご支給によるテストパターニング受託も対応 【FZウェーハ】 直径30mmから8インチ、0.1 ohmから10k ohm cmを超えるような高抵抗シリコンウェーハを取り扱っております。製法はノンドープ、ガスドープ、中性子照射品などがあり、高ライフタイム、低酸素・低炭素濃度が特徴です。 【用途例】 □各種試作研究開発 □半導体製造装置評価 □太陽電池ウエハ… シリコン単結晶/多結晶/合成石英の各種加工品も取り扱っております。 化合物半導体や各種電子材料も取り扱っております。
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