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    PVD装置

    ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置

    ●特徴  Fraunhofer FEP製DRM400ユニットによるDCパルスによるユニポーラ・バイポーラモードの選択、且つ基板回転機構・冷却機構・RFバイアス機構を搭載した、  優れた膜厚均一性、超高速成膜可能なPVD装置です。 ●アプリケーション  SAWフィルター(SiO2膜)、圧電膜(...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

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