UV洗浄表面改質装置　ASM401N3.01

研究室などで簡単にUV洗浄表面改質が可能です。 50mm×50mmの照射エリアを持つ小型タイプです。

UV洗浄装置　

ＵＶ洗浄、紫外線洗浄、ＵＶオゾン洗浄、紫外線オゾン洗浄とも呼ばれる、製品の高精細化に適合した、ＵＶエネルギーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。
低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。同時に基盤表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応がおこり、有機汚染物質は揮発性の二酸化炭素や水分となり飛散することで、基盤表面がクリーンになります。

○高照度、高均一紫外線照射　
　特殊形状の低圧水銀ランプを採用することで、高い照度を実現。照度均一度は±10%を確保しました。
○正確なデータ取りが可能
　ランプから試料ステージまでの照射距離を10mm刻みで設定出来、最適な照度で実験が行えます。
○安全な環境を確保
　紫外線が外部に漏れない設計です。
　扉を開けるとランプが消える安全設計。　排オゾンの分解除去器もオプションでご用意致します。