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最終更新日:2011-06-10 11:09:41.0

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プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501

基本情報プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501

ICPタイプのRF高密度プラズマにより各種原料ガスを処理し、成膜実験、エッチング実験等にご使用頂けます。

プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。

プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501

プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501 製品画像

プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。 (詳細を見る

取扱会社 プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501

アリオス株式会社

真空計、分子線セル、プラズマ・ラジカル・イオン源 実験用装置、半導体製造装置の設計・製造・販売

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