アリオス株式会社
最終更新日:2011-06-10 11:09:41.0
プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501
基本情報プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501
ICPタイプのRF高密度プラズマにより各種原料ガスを処理し、成膜実験、エッチング実験等にご使用頂けます。
プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。
プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501
プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。 (詳細を見る)
取扱会社 プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501
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