オスミウムコーター　ＨＰＣ－１ＳＷ型ホローカソードプラズマＣＶＤの製品カタログ2

オスミウム金属成膜の基本装置 簡単操作で５ｎｍ以下の成膜が可能です。

この装置は電子顕微鏡観察用オスミウムコーティング装置です。ホローカソード試料台を採用し、低電圧放電でコーティングを行うため試料ダメージがほとんどありません。プラズマ放電はホローカソード内で行われ、円筒内はプラズマエネルギーで分離した金属Os粒子で満たされます。円筒内に置かれた試料表面には一様な厚さのOs膜が形成されます。オスミウムガスはホローカソード内部に必要量だけ注入されますので消費量が少なく、未反応のガスは活性炭トラップで吸着除去し、大気中への有害ガス放出を抑えております。