エムエス機器株式会社
最終更新日：2022-03-10 13:43:32.0
薬液温調システム CLEANSTREAM1100
基本情報薬液温調システム CLEANSTREAM1100
薬液タンクをフロンガスを使用したチラーで温調する従来方式に比べ95%もの電力消費を削減できます！
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。
ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。
非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。
さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。
薬液温調システム CLEANSTREAM
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。
ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。
非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。
さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。
別売の専用のコントローラーで温度制御します。
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消費電力大幅削減！薬液温調システム
半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。
ペルチェモジュールを用いた本装置は洗浄薬液を±0.05℃で温度制御を行います。
非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。
さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。
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