JSWアフティ株式会社
最終更新日:2016-08-16 16:48:57.0
固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8800』
基本情報固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8800』
均一性に優れた多層膜を形成できる!全自動多層膜形成装置
『AFTEX-8800』は1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ減を2基搭載し、
高品質な極薄膜絶縁膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた
多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。
プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって
固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。
CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、
地球環境にやさしい成膜技術です。
【特長】
■高絶縁膜特性
■多層膜
■緻密・平坦膜
■低ダメージ
■長期安定稼働
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
取扱会社 固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8800』
■ナノエレクトロニクス技術、オプトエレクトロニクス技術およびメカトロニ クス技術の先端技術を応用した各種装置の設計、製造、販売、検査、据付、 修理、点検、保守部品供給、中古装置の斡旋業務および、これに付帯する業務
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