アトーテック株式会社　会社案内

アトーテック株式会社は、金属材料工学と真空工学を基盤技術とし、
真空ポンプをはじめ、ナノ粒子（超微粒子）製造装置、真空バルブ、
真空計、真空部品の取り扱い、真空装置の設計製作を行っている会社です。

これまで様々な真空装置やナノ材料創製装置等の開発、製造にたずさわり、
特に真空熱処理装置は多くの納入実績がございます。
また超微粒子製造装置は、材質材料研究機構との共同特許を取得致しました。

当社ではこれからも真空装置のトータルプランナーとして、
お客様の立場になって製品を作り、より良いサービスをご提供していきます。

【事業内容】
■各種真空ポンプ、真空部品、真空バルブ、真空計等の販売
■各種真空装置、電気炉、理化学機器の設計製造販売
■カーボン、モリブデン、タンタル、タングステン加工品の製造販売
■真空装置、部品の輸出入
■各種真空装置、ポンプ類のメンテナンス
■上記各号に付帯する一切の業務

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

【用途】
30パイまでの各種金属類の拡散接合に使用。

【仕様】
加圧能力：1Torr
常用圧力：10-4Pa
常用加熱温度：1300℃
加熱長：30パイx100mm
高周波電源：20KW  （詳細を見る）

【仕様】
槽内寸法：300パイ×400H(ＳＳ−４００)
加熱温度：max150℃
ヒーター容量：200V　3パイ　4KVA
真空ポンプ：500L／min
プログラムタイマー付
オプション：含浸用ケース、製品用網板

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仕様
一段炉　max　Temp　1000℃(透明電気炉)A型
二段炉　max　Temp　1200℃ 均熱帯40×80(赤外線ゴールドイメージ炉)
到達圧力　×10-5Pa
ＴＭＰ　160L／sec
ＲＰ　162L／min
温調計、記録計、ピラニー、電離真空計  （詳細を見る）

【仕様】
加圧方式：分銅+テコによる加重方式
過熱寸法：40パイx40H
過熱方式：高周波、プログラム式温度調節
最高過熱温度：1400℃
真空度：x10-5PA
高周波電源：20KW  （詳細を見る）

仕様
max　Temp　2000℃
均熱帯　50パイ×150H
到達圧力　5×10-6Pa
ＴＭＰ　1800L／s，60L／s
ＲＰ　500L／min，90L／min
ガス急冷機構付

※詳細はお問い合わせ下さい （詳細を見る）

◆概要◆
本装置は強磁場中(20T)に於いて磁場中熱処理装置と組合せ、金属材料の引張、圧縮試験を行う目的にて開発された装置であります。

【付帯設備】
既設磁場中熱処理装置
アクチュエーター(ロードセル付)
高圧油圧ホース
油圧源
制御装置

【仕様】
１．アクチュエーター1ton(ロードセル付)
２．ストローク±25
３．低速引張速度0.015mm／min
４．引張サイクルテスト可能
５．圧縮サイクルテスト可能 （詳細を見る）

研究・開発に適した小型エコノミータイプ
■金属内包フラーレンやカーボンナノチューブの合成も可能
■ワーク連続供給機構付
■カソード成長防止機構付
■小型設計、スーツ回収、取付が容易
■クリーニングは１回のみで簡単
■オプション　磁場によるアーク方位変更が可能

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【仕様】
最高加熱温度　1600℃　常用1500℃
均熱帯　30パイ×300L　1200℃±7℃
ヒーター　カンタルスーパー　3分割制御方式
電気炉　350×700L　内径φ32
電気容量　１次側200V1　ファイ50A　２次側max20V　120A×3
記録計　1PEN
温調計　３台

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仕様
ホルダー保存用マニホールド　６ヶ
到達圧力　×10-8Torr
排気系　ターボ分子ポンプ(200L／sec　50Hz　N2)
ロータリーポンプ(165L／min)
ゲート弁、補助弁
電離真空計、ピラニー真空計、ガス導入バルブ、ベンディングデバイス付  （詳細を見る）

【仕様】
・加熱したシリコン基板等とガラス基板に高電圧を印加して容易に接合可能
・研究、開発に適したコンパクト&エコノミータイプ
・アライメント部は小型設計の卓上型
・試料サイズは標準で4インチ、オプションで最大6インチまで可能

用途
・各種センサー・マイクロマシン・生体材料・各種光学用途 （詳細を見る）

【概要】
本装置は真空チャンバー内で超伝導線材φ1.0〜1.6mX2Km以上のNb/AL複合線材を直接通電加熱（2000℃）し、そのまま50℃〜150℃の溶解Gaに急冷却し、長尺のbcc相飽和固液体線材を均一に生成する事を特徴とします。

従って他の目的で長尺線の焼入等にも応用可能です。

※詳細はお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

【特長】
印面などが真空引きされた後にインクに入るのでインクの含浸が極めて良い。

【仕様】
容器：330×520H(アクリル製)
インク缶：180パイ×180H
金網容器(印面等を入れる)：170パイ×100H
Ｖａｃ：×10-1Pa
真空ポンプ：50／min
真空バルブ、サンプル上下棒(真空シール口付)

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【仕様】
上段炉(大気中)
ヒーター３分割式(３回路)カンタル炉　２台
均熱帯　φ50×200L　1000℃±2℃
max　Temp　1200℃
炉芯管　アルミナ管　60φ×55φ×1000L
下段炉(真空中)Ｖａｃ　×10-4Pa
仕様は上段と同等、但し試料出入れ室(ＳＵＳ)
炉芯管支持室　60φシール口(２ヶ所)水冷式
真空排気系(ＲＰ(160L／min)、ＤＰ(ＤＰＦ−３Ｚ))バルブ他
透明石英管　60φ×55φ×1000L  （詳細を見る）

【概要】
本装置は超伝導マグネットと組合せ強磁場中(20T)に於いて真空、高温で金属材料の熱処理試験を行う目的にて開発された装置であります。
電気炉は強磁場の影響を受けない構造が特長になっております。

【製品仕様】
１．最高加熱温度　max　1100℃　10φ×30L
２．電気炉外筒(ＳＵＳ３０４)
　１）ＯＤ95φ×312L　外筒内水冷、真空断熱層
　２）上部超ストロークベローズ、真空室(電極、引口付)
　３）下部試料交換用ＩＣＦフランジ付
３．ヒーター(Ｔａ)　無誘導巻き21φ×94L
４．反射板(Ｔａ、Ｍｏ)　24φ×31φ×98φ
５．架台(ＳＵＳ３０４)　1330W×1460D×1820H  （詳細を見る）

【仕様】
溶解量　Ｆｅ換算５００g
溶解室　ＳＵＳ３０４　200×200H
銅ハース　各種ボタン、棒状など形状任意
真空排気系　ＤＳ−３１２Ｚ(大亜真空製)
油拡散ポンプ　ＤＰＦ−３Ｚ(360L／sec) 油回転ポンプ　(150L／min)
オイルミストトラップ　Ｇ−３４０
真空計　ＩＴ−Ｌ２０Ｐ(大亜真空製)
到達圧力　×１０-6Torr
アーク電源　入力３φ23KVA，電流500A
電気容量　3200V25KVA，100V1KVA
冷却水　20L／min
水圧　1kg／cm2　以上  （詳細を見る）

仕様
温度：常用2200℃　最高2300℃　真空中最高2200℃
昇温時間：常温〜2200℃　60分
真空度：到達5×10-5Torr
試料ケース：焼結用φ150×φ130×120H
モールド：ホットプレス用　φ60×120H　等方性黒鉛製
圧力：雰囲気加圧9.5kg／cm2　ホットプレス総圧　10TON
温度調節：熱電対、単色温度検出デジタル　プログラムＰＩＤ調節
記録：３ＰＥＮ記録計(温度、プレス圧、試料厚変位)
加熱：黒鉛製抵抗発熱体加熱　40KW
冷却水：50L／min　2〜4ＫＧ／cm2　32℃以下 （詳細を見る）

銅ハース上で中心にZr系金属の溶湯をプランジャーを引き下げる事で、瞬時に鋳型へ注入し、バルクアモルファス合金を作成することができます。

丸棒は16パイ×L80、板材はt5×W18×L100等が鋳型の交換で作成可能です。
また本装置は鋳型を交換することによりバルクアモルファス合金の他に、多元金属のボタン、母合金作成等の機能をもっており操作性が良く、効率的に試料を作成する事ができます。  （詳細を見る）

本装置はアルゴンガス雰囲気中(減圧)にて、種々の金属材料をアーク溶解によって生成する事を目的とします。

【特長】
■開発・研究に適したエコノミータイプ
■コンパクトで低価格
■手軽に母合金等の溶解ができます

【用途】
磁性材料、熱電素子材料、電池材料、生体材料、マイクロマシン、リサイクル  （詳細を見る）

【製品仕様】
静電変更型電子銃蒸発源
電子銃容量　20W
フィラメント電流：DC10A
エミッション電流：max50mA
シュラウド水冷用(2L／min)
蒸着材寸法　φ1mm×50mm
Ｚ軸可動範囲　６インチ
取付フランジＩＣＦ７０
シャッター機構付(手動式)
シャッター孔径　φ7

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【仕様】
max　Temp　2000℃
均熱帯　20パイ×50H
到達圧力　5×10-6Pa
ＴＭＰ　1300L／ｓ，280L／s
ＲＰ　650L／min，140L／min
ＭＢ　50m3／hr
ガス急冷機構付
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【特長】
１）常温から1000℃まで約11分で急加熱できます。
２）不活性ガス導入により試料の急冷が可能です。
３）均熱帯がφ50×300L　1000℃±1℃以内

【仕様】
max　Temp　1000℃
均熱帯φ50×300L+移動1000L
到達圧力　3×10-5Pa(ＤＣ−７０５油、トラップ使用時)
透明電気炉　A型
電源　1パイ　200V　3KW
真空排気系(ＤＳ−４１２Ｚ型)(大亜真空製)
電離真空計(ＩＴ−Ｌ２０Ｐ型)(大亜真空製)

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仕様
加熱温度　最高1150℃
均熱帯　150ファイ×150L　1000℃　±5℃以内
ヒーター　カンタルヒーター

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【仕様】
max　Temp　1000℃
均熱帯：50パイ×300L　1000℃1℃以内
到達圧力：3×10-4Pa
透明電気炉：A型
電源：1パイ　200V　3KW
真空排気系：(ＤＳ−３１２Ｚ型)(大亜真空製)
電離真空計：(ＩＴ−Ｌ２０Ｐ型)(大亜真空製)
記録計(シマデン製)

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【仕様】
加熱温度　最高1200℃
均熱帯　60パイ×150L　1000℃　±5℃以内
ヒーター　カンタルヒーター

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【仕様】
真空チャンパー　600W×200D×650H
到達圧力　8×10-3Pa
線材径0.5パイ〜0.9パイ×5m
線材送り速度0.01m〜1.5m／sec
加熱方式　直接通電
max　Temp　2000℃
Gaバスへ急冷却方式  （詳細を見る）

【特長】
ハロゲンランプ等の電極の充填、脱ガス等、真空熱処理を行う炉です。
高真空のため排気系としてはターボ分子ポンプを使用しております。

【仕様】
到達圧力：5X10-6Pa
常用圧力：X10-4Pa

最高加熱温度：2400℃
常用加熱温度：2000℃
高周波電源：40KW
均熱帯：30パイx30H（2000℃±2%）  （詳細を見る）

【仕様】
加熱温度：常用800℃　最高1000℃
均熱帯：90パイ×500L　500〜1000℃　±2℃以内
ヒーター：カンタルヒーター
プログラム調節計
温度記録計
電気炉：110パイ×1000L(3分割制御)　200V1パイ7KW／台 （詳細を見る）

【特長】
■簡易的なガス定量分析に最適
■簡単操作で高信頼性
■コンパクトでエコノミー
■特許申請中

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『PRESS-VAC-2S型』は、さまざまな熱処理が可能な真空装置です。

真空の状態でプレスを行うことで、通常の状態でプレス加工するのとは
違った処理をすることが可能です。

また、熱処理に関しましてはプログラム制御を行いますので、細かい
温度管理が可能。今までのものとは異なる新しい製品の開発などに
利用することができます。

【特長】
■プレスユニットの圧縮能力については任意の設定することができる
■0.3Kg3/cm2の圧力雰囲気処理も可能
■高真空で使用できるだけではなく、複数の不活性ガスでも使用できる
■狭いスペースにも置けるようなコンパクトな装置
■金属ヒーターと反射板を使用した構造を採用

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）