神港精機株式会社東京支店
最終更新日：2020-06-04 15:34:50.0
水素アニール装置
基本情報水素アニール装置
精密熱処理・眞空・雰囲気制御、神港精機のコア技術を凝縮。ニッチプロセスをサポートするカスタマイズ容易なファーネス型アニール装置
２インチから８インチまでのウェハに対応したファーネスタイプのアニール装置です。真空置換後の１００％水素雰囲気中でのアニールが可能です。
水素雰囲気の強い還元力によって他のプロセスでは実現できない効果を実現できます。
御要求に応じて高真空排気、減圧中水素フロー雰囲気・フォーミングガスでの処理など多様な雰囲気処理に対応いたします。（真空およびＮ２・Ａｒ処理にも対応）
均熱性の高い加熱性能に加え急冷機構を標準で装備しており、薄膜の合金化プロセスの制御性とスループットの向上が図れます。
化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）
Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。
ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。
窒化膜半導体の電極の合金化に実績。
急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。
生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。
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水素アニール装置（電子デバイス用、サンプルテスト対応中）
水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現
デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。
実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保
電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応 （詳細を見る）
取扱会社 水素アニール装置
●装置事業部 （成膜装置） ・スパッタリング装置 ・真空蒸着装置 ・硬質膜形成装置 ・プラズマCVD装置 （プラズマ装置） ・エッチング装置 ・アッシング装置 ・クリーニング装置 （熱処理装置） ・真空リフロー装置 ・プラズマリフロー装置 ・真空熱処理装置 ・アニール装置 ●規格品事業部 ・ドライポンプ ・油回転真空ポンプ ・水封式真空ポンプ ・メカニカルブースタ ・真空排気装置 ・真空計、真空弁、真空部品 ・精密投影機 ・特殊光学機器
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