トプティカフォトニクス株式会社営業部
最終更新日：2022-09-15 12:02:59.0
DUV CW深紫外半導体レーザーシステムDLC TA FHG PRO
基本情報DUV CW深紫外半導体レーザーシステム
193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266 nm FHG 発生CW半導体レーザーシステム
トプティカ社のDLC TA FHG proはFHG発生技術を用いて193nmまでのDUV波長をCW発振することが可能です。半導体レーザーをベースとしたオールソリッドデザインを採用することで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多くの点に関して一般的に使用されてきたガスレーザーより優位性を備えています。
DUV CW深紫外半導体レーザーシステム
トプティカ社の深紫外半導体レーザーシステムはリソグラフィー、光学テスト＆検査、ホログラフィーを含む多くの要求の厳しいアプリケーションにとって理想的な単一周波数レーザー光源です。
本レーザシステムはFHG発生技術を用いて193nmまでのDUV波長をCW発振することが可能です。半導体レーザーをベースとしたオールソリッドデザインを採用することで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多くの点に関して一般的に使用されてきたガスレーザーより優位性を備えています。
・最大数百mWクラスの高出力
・高いコヒーレンス：100mを超えるコヒーレンス長（<1MHz線幅）
・低いランニングコスト
・深紫外から可視まで豊富な波長ライナップ (波長チューニングオプション)
・堅牢 & 高い信頼性（周波数安定化オプション） （詳細を見る）
取扱会社 DUV CW深紫外半導体レーザーシステム
■レーザーシステムおよび光電子工学システム・機器・部品の取引、輸入、 輸出、販売および調達 ■半導体レーザー又は光ファイバーに基づくレーザーシステムおよび光電子工学システムの開発、製造、組立、保守および修理 ■上記事業に付帯関連する一切の事業
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