CO・AO・SCポリッシングスラリー

CO/AO/SC系スラリーはお客様のご要望に合わせてオリジナル精密研磨材のご提供が可能です、原料の砥粒は酸化セリウム（CO）、酸化アルミナ（AO）、炭化ケイ素（SC）からお選び頂けます。また分散安定性が高く、均一でかつ良好な仕上面が得られます。ガラス基板、化合物結晶体、セラミック、光ファイバ・光コネクタ、金属などの多くの材料の精密仕上げに最適です。

特徴
◆優れた研磨レート。
◆凝集しない、高分散性。
◆均一かつ良好な仕上げ面が得られる。

用途
◆光学結晶体・SiC表面仕上げ
◆ハードディスク・磁気ヘッド
◆硬質合金
◆光ファイバ・光コネクタ