乾燥装置『箱型棚式真空乾燥機』

『箱型棚式真空乾燥機』は、真空下での低温乾燥のため、熱に弱い原料や
酸化を嫌う原料の乾燥が可能です。

高真空での処理により、製品の含水率をきわめて低く抑えることができます。
粉粒状物だけではなく、液状物から高濃度・高粘度物まで対応します。

超薄型の加熱板棚により、超コンパクト型となっています。
また、温度コントロールが容易で、温度むらがほとんどありません。

【特長】
■熱に弱い原料や酸化を嫌う原料の乾燥が可能
■粉粒状物だけではなく、液状物から高濃度・高粘度物まで対応
■静置乾燥のため、振動や摩擦に弱い原料の乾燥が可能
■温度コントロールが容易で、温度むらがほとんどない
■溶剤の回収が容易

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）