ガス分離型　面状加熱ヒーター『HFC-Ox』

『HFC-Ox』は、C/Cコンポジット（炭素‐炭素複合材）を使用したヒーターが
石英ガラスに完全に覆われており、酸化雰囲気下で最高1,000℃までの
昇温が可能なガス分離型面状加熱ヒーターです。

主に、薄膜装置（CVD/スパッタリング等）や半導体製造装置（基板加熱/
フラッシュアニール等）への組み込みに適しています。

【特長】
■大気中や酸化雰囲気中で1,000℃まで昇温可能
■化学的に安定した石英ガラスを使用しており使用環境の影響を受けにくい設計
■コンタミの発生が極めて少なくクリーンな状態で使用可能
■ヒーターに用いるC/Cコンポジット素材は熱容量が小さく振動や衝撃及び
　サーマルショックに強く速やかな昇温及び降温が可能
■スペースを取らないコンパクトな設計

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