株式会社渡辺商行
最終更新日：2023-03-22 14:52:03.0
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) カタログ
基本情報高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) カタログ
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置 (8インチウェハまで対応)
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。
ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現。
トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。
トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。
AMAX800Vは、8インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり100枚の成膜が可能。
また、AMAX800Vのメンテナンス性を更に向上させたAMAX800V2もラインナップしております。
●装置サイズ(mm): 1460mm(W) x 3830mm(D) x 2250mm(H)
●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2)
●成膜温度: 350～430℃
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。
【特徴】
・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ)
・真空・プラズマ不要 (熱CVD)
・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策
・シンプルメンテナンス
・低CoO(低ランニングコスト)
【用途】
・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG)
・パワー半導体用層間絶縁膜(NGS/PSG/BPSG)
・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)
・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)
※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 （詳細を見る）
取扱会社 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) カタログ
【関連製造部門】 ●(株)ワコム製作所 石英ガラス製品（ASM Epsilion石英部品、各種加工品）、シリコーンゴム製品、半導体装置用部品、ラッピング・ポリッシング用キャリア ●(株)トムコ ウエハ移換機、IPA蒸気乾燥装置、部品再生洗浄、部品加工 ●(株)天谷製作所 常圧CVD装置、MO-CVD装置、フォトマスク洗浄装置 【環境関連】 ソーラ用Siウエハ、セパレーター＆クリーニングシステム、ワイヤーソークーラント回収システム、酸化セリウム回収システム、スラリーリサイクルシステム、IPAリサイクルシステム、水質分析計、無機系凝集剤オイルフロック 【素材・部品関連】 コバレントマテリアル(株)製品 (石英ガラス、SiC、カーボン)、ファインセラミックス、マシナブルセラミックス、各種フィルター、その他半導体装置用消耗部品、シリコーン樹脂、耐火物、各種ヒーター関連
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