有限会社エスエスシー 企業イメージ
共同研究による新しい溶射装置・粉体供給機の開発による、新規機能性皮膜の開発
有限会社エスエスシーは、HVAF溶射をメインとする溶射受託加工専門の会社です。
HVAFは灯油と圧縮空気の燃焼ガスが作動ガスです。燃焼温度が低いので、耐摩耗性を主目的としたサーメット(WC系)材料を溶射するのであれば、HVOFでは通常発生するW2Cなどの副生成物が発生しません。
HVAFの温度をコールドスプレーやウォームスプレーの温度領域まで下げることが可能であれば、工業用ガスを使用しないことから、運転コストを低減できます。しかし、液体燃料は気体燃料に比べて正常な燃焼を維持する範囲が狭く、既存の溶射装置では困難です。
上記問題を解決するため、大島商船高専との共同研究により「低温溶射用HVAF」を開発しました。作動ガス温度は450～800℃の間で調整可能です。工業用ガスをしませんので、コスト面での優位性があります。
また、溶射は乾式における数μm以下の微粉体安定供給は困難という問題があります。この問題を解決するため、大分高専とも共同研究を行っており、実用化はまだですが、プロトタイプは完成しており、社内の受託加工には問題なく試用できる段階に達しています。
○HVAF(高速フレーム溶射)・プラズマ溶射による表面改質処理
○低温溶射用HVAFによる表面改質処理
○低温溶射用HVAFの設計・販売
○低温溶射用HVAFと振動流動場を用いた粉体供給機を組み合わせた微粉体による表面改質処理
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