プラズマCVD装置『PEGASUS』
低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性!
『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの 絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な 量産対応型プラズマCVD装置です。 インターロック機構による、高い安全性を…
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