低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！
『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの
絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な
量産対応型プラズマCVD装置です。
インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ
接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。
【特長】
■低温成膜
■メンテナンス性
■ウエハ取扱い
■フットプリント
■保守メンテナンス など
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基本情報プラズマCVD装置『PEGASUS』
【仕様】
■サイズ：W4000mm×D2000mm×2000mm
■プラズマソース：ICP、RFバイアス
■ガス種：SiH4、O2、N2、HMDSO、NF3
■ウエハサイズ：～φ12インチ（FOUP対応）
■成膜速度：～300nm/min
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログプラズマCVD装置『PEGASUS』
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