純水スピン洗浄乾燥機　TCL300SPW テクノライズ株式会社

開発・試作向けの装置や高い生産性と洗浄性を兼ねた「バッチ式」や「枚葉式」等の全自動洗浄装置まで貴社のニーズにお応えいたします。

半導体・２次半導体の部材や部品・金属部品等、弊社の技術ノウハウとテクノロジーを生かした洗浄方法（超音波、ブラシ、高圧ジェット、薬液、UV等）や乾燥方法をご提案いたします。
　※ 微細なラインやホールの中の汚れが落ちにくく、乾燥もしづらい！！
　※ ウォーターマークが出てしまう！！
　※ 薬液を使用した洗浄方法が分らない！！　Etc

関連リンク - http://www.technorise.ne.jp/products/tcl300spw.php

基本情報純水スピン洗浄乾燥機　TCL300SPW

【特徴】
○シリコンウェハーや硝子基板の表裏面のほこり等を短時間で、洗浄から乾燥
○専用回転テーブルに加工対象物（ワーク）をセット
○回転させながら（MAX2000rpm）、ワークの表裏同時洗浄・乾燥

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