ロータリーキルン式連続CVD装置マイクロフェーズ

粉体の連続熱／CVD処理、連続CNT合成などに

反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード／回収機構を有する連続CVD処理装置です。　粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。

関連リンク - http://www.microphase.jp/

基本情報ロータリーキルン式連続CVD装置

【特　徴：・炉心管の傾斜角度および回転速度の調整により、粉末試料の素性に合わせた導入速度の調整が可能
・試料導入用回転機構と、CVD処理用回転機構との独立2系統の回転機構を装備し、処理レートの制御が可能
・反応室を解放せず、冷却せず、連続CVD処理を実現

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価格情報	お気軽にお問い合わせください。
価格帯	500万円 ~ 1000万円
納期	お問い合わせください ※お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例	●詳細についてはカタログをご覧頂くか、お問い合わせ下さい。

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取扱企業ロータリーキルン式連続CVD装置

株式会社マイクロフェーズ

◆ナノ成膜装置＝　CNT合成装置、　グラフェン成膜装置、　回転CVD炉、　ロータリキルンCVD装置、　負極材表面へのカーボンコートCVD装置、　ナノ粒子成膜装置、　真空蒸着装置など ◆ナノ材料＝　垂直配向CNT、　CNT分散液、CNT樹脂複合材料、　伸び～るCNTゴムシート、　CNT黒体、　CNT熱伝導シート、　酸化チタン／炭化チタンナノチューブなど