リソテックジャパン株式会社 レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
- 最終更新日:2022-08-31 15:13:03.0
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EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置
レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。
基本情報レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
【主な特徴】
●Energetiq Technology社製EQ-10 EUV Sourceを搭載
●EUV(13.5nm)露光が可能
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