ジャパンマシナリー株式会社 OBLF社製 発光分光分析装置 GS1000-II
- 最終更新日:2022-05-23 13:20:42.0
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独クラフツマンシップの中から誕生した高性能発光分光分析装置
GS1000-IIはOBLF社製分析装置の中で最も小型なシングルマトリックス専用の装置です。
高精度な分析が、簡単な操作および僅かな日常メンテナンスのみにより実現できます。
大量生産方式では決して得ることのできない高精度と抜群の安定性の達成で各国主要企業において採用されています。
詳細につきましては別途ご連絡下さい。
基本情報OBLF社製 発光分光分析装置 GS1000-II
【特徴】
・光学系:焦点距離500mmのパッシェンルンゲマウンティング
・真空チャンバー:ポンプ稼働率5%程度の高気密処理タイプ
・プロファイリング:全自動
・イグナイタ:半導体方式(無電極)
・試料クランプ:ニューマチック式
・抜群の繰返再現性と長期安定性
・アルゴンガス消費量:極端に少ない(待機時)
・真空ポンプ:稼働率約5%
・消耗品:少ない
・故障要因を可能な限り排除した堅牢性の高いデザイン
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取扱企業OBLF社製 発光分光分析装置 GS1000-II
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