株式会社大和テクノシステムズ 特殊成膜技術 「オスミウムコーティング」
- 最終更新日：2015-10-15 15:47:40.0
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非常に滑らかな表面！内壁まで均一な特殊成膜技術
高精度に加工、清浄化したアパーチャープレートにオスミウムを成膜することで、アパーチャープレートのチャージアップを防止することが可能です。
オスミウムは高硬度、高融点であり、導電性の薄膜です。プラズマCVD法にて成膜するため、微細な穴の内部まで均一でなめらかな膜を形成することが出来ます。
【特徴】
○膜厚 50nm
○良導電性
○すぐれた耐熱性
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基本情報特殊成膜技術 「オスミウムコーティング」
【新規製品・新規開発】
○微細加工
○特殊素材
○真空技術
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カタログ特殊成膜技術 「オスミウムコーティング」
取扱企業特殊成膜技術 「オスミウムコーティング」
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【営業科目】 ■設計開発および特殊加工 ■電子部品販売 ・電子顕微鏡機器部品、理科学機器部品、分析機器部品 ・電子顕微鏡検査受託(走査型4台対応) ■レアメタル材料販売 ・タングステン、モリブデン、タンタル、チタン、ニッケル、 コバール、ステンレス、etc. ・貴金属全般(線、板) ■保守メンテナンスサービス事業
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