豊富な開発経験とネットーワークによりお客様のご要望に最適な装置を開発いたします。
当社は産業用から研究開発応用まで幅広くＧＣＩＢ装置を開発製造してきたエンジニアを有し、お客様の様々なご要望に応じたＧＣＩＢ装置を提供いたします。
ＧＣＩＢによる加工法はＷＣやダイヤモンド等通常の研磨加工では難加工材と考えられている材料やフッ化物に代表される加工時に水を嫌う材料まで、サブナノレベルの平滑度に加工することが可能です。
当社のＧＣＩＢソースは大電流が取れることを特徴とし、SF6ガスクラスターで1mA(モノマーイオン換算で数A)の実績を有します。
基本情報ガスクラスターイオンビーム（GCIB）応用装置
【仕様ガス】
・Ar, CO2, N2, SF6など
【イオンエネルギー】
・10~40keV
【照射ビーム電流】
・Ar>150μA, SF6>250μA
●詳しくはお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 |
お問い合わせください
※お気軽にお問い合わせください。 |
| 用途／実績例 | ・WC、ダイヤモンド等難加工材料の表面平滑化 ・GCIB援用薄膜形成 ・材料の表面改質 |
取扱企業ガスクラスターイオンビーム（GCIB）応用装置
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