材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上）
Si粉末不純物濃度：
25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析）
→ Si+Others > 99.9979%
粉砕工程で２回の酸洗いと磁選により、高純度化を実現。
粉砕後酸素（O）濃度：0.29%（IGA分析）
基本情報4N超高純度 シリコン（Si）粉末
■製品スペック
材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上）
粉砕後不純物濃度
Fe=2.2ppm
Al=0.36ppm
Ca=6.3ppm
25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析）
→ Si+Others > 99.9979%
C/O濃度測定（IGA分析）
C=22ppm
O=0.29%
粒度（レーザー回析・散乱法）
D10=1.159 µm
D50=4.586µm
D90=8.653µｍ
＊量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
＊保証スペックについては、契約にて定めます。
| 価格帯 | ~ 1万円 |
|---|---|
| 納期 |
~ 1ヶ月 ※数量によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。 |
| 用途／実績例 | ＜汎用品＞ ・耐火煉瓦用原料及び不定形耐火物用原料 ・アルミニウム合金及び特殊合金用原料 ・窒化珪素用原料 ・製鋼用脱酸剤配合用原料 ＜高純度品＞ ・ポリシリコン製造原料 ・ファインセラミックス出発原料 ・リチウムイオン電池負極材料 ＊粉砕粒度は、それぞれの用途により、指定を承ります。 |
カタログ4N超高純度 シリコン（Si）粉末
取扱企業4N超高純度 シリコン（Si）粉末
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【事業ミッションと展開方針】 １．先端産業向け必須材料の調達・供給 1) 日本の先端科学技術開発に資する研究開発用材料の調達・供給 ＜重点取扱分野＞ ＊次世代電池材料 ＊パワー半導体材料 ＊放熱材料 ＊３Ｄプリンター材料 ＊ＥＶ軽量化材料 ＊高機能セラミック材料 ＊高機能カーボン材料 2) 日本の先端産業の拡大発展に必須となる量産用基礎資材の調達と サプライチエーンの再構築 ＊自然災害・地政学リスクを踏まえた金属シリコン等の 基礎資材のサプライチエーンの多角化 ２．シリコン材料の研究開発 1) アモルファスシリコンのバルク製造 ＊ＬｉＢ負極用材料として 2) シリコンスラッジ活用の高付加価値化 ＊脱酸素剤を超える用途開発 ３．工場建設コンサルティング・技術支援 ＊金属シリコン製造工場 ＊フェロシリコン製造工場 ＊シリコン粉末製造工場
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