ALD成膜サービスシリコンセンシングシステムズジャパン

細くて深い溝にも綺麗に成膜できる！新しいMEMS受託加工サービスのご紹介です

従来のCVD法で生じた成膜のムラをALD法を使って解消しませんか。
ALD（Atomic Layer Deposition）では原子レベルで一層ずつ成膜するため、細く深い溝にも緻密に成膜することが可能です。

6インチ及び8インチのバッチ処理に対応。
ご興味ございましたら、弊社までお気軽にお問い合わせください。
https://www.sssj.co.jp/cgi-bin/ja/usr/index.cgi?c=contact-1

関連リンク - http://www.sssj.co.jp/services/foundry-services/al…

基本情報ALD成膜サービス

【概要】
・ウエハサイズ：6インチ、8インチ
・25枚一括処理
・膜種
　・Al2O3 （インクジェット等に最適）
　・HfO2（インクジェット等に最適）
　・TiO2 （光学系デバイスに最適）
・装置：Picosun　P-300B Advanced ALD

【特長】
・単原子層ずつ成膜するため、膜厚制御性に優れている。
・アスペクト比の高い構造への成膜が可能。
・ステップカバレッジが良い。
・ピンホールフリー。
・低温成膜。

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください ※別途ご相談
用途／実績例	【加工実績】・PZTの耐質膜シリコンセンシングでは、自社PZT薄膜の保護膜として最適化を行ったALD膜を成膜することにより、高い信頼性を実現しています。