ワイエイシイメカトロニクス株式会社 純水加温装置『HDW III』
- 最終更新日：2020-11-19 13:36:20.0
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シリコン基板の温純水洗浄や温純水引き上げ乾燥に適した純水加温装置！
『HDW III』は、半導体製造プロセス/太陽電池製造プロセスにおける
シリコン基板、液晶製造プロセスにおけるガラス基板等の洗浄で使用される
超純水を、石英ガラス容器内でカーボンヒーターにより非接触でクリーン
加熱する装置です。
PID制御による±1°の安定した温度制御と起動から使用温度まで120秒以内の
昇温が可能。また、幅広い使用流量・温度に対応し、流量変化に対応した
温度調整もできます。
【特長】
■クリーン加熱
■高効率で省エネ
■高性能温度調整
■使用流量に応じた充実したラインアップ
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
基本情報純水加温装置『HDW III』
【ラインアップ】
■HDW III-12
■HDW III-18
■HDW III-24
■HDW III-36
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■シリコン基板の温純水洗浄 ■液晶用ガラス基板の温純水洗浄 ■フォトマスクの温純水洗浄 ■フロン系洗浄に代わる温純水洗浄 ■温純水引き上げ乾燥に使用 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。 |
カタログ純水加温装置『HDW III』
取扱企業純水加温装置『HDW III』
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ワイエイシイメカトロニクス株式会社 つくば事業所 PV事業部
【取扱製品】 ■協働ロボットシステム ■バニッシャー ■UVキュア ■ハードディスク搬送機・自動機 ■PV/LED/TP等、その他の搬送機自動機 ■空気清浄機 ■ICハンドラー 200シリーズ ■ICハンドラー 300シリーズ ■ICハンドラ ペルチェ方式 C912P ■ICハンドラー 900シリーズ ■ポゴピン挿入機 ■コンベア搬送・包装機 ■多彩なFA装置 ■太陽電池ウエハー工程用装置 ■太陽電池セル工程用装置 ■IPAベーパー乾燥機 ■純水加温装置 ■精密部品洗浄装置 ■研究開発用装置
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