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マランゴニ効果を利用！パワーデバイス製造の薄ウェハの乾燥をターゲットに開発
当社の従来製品「IMD III」を使用して薄ウェハの乾燥処理を 行った場合、ウェハとキャリアを分離した際、隣のウェハ同士が 接触する問題が生じ、乾燥不良の原因となっていました。 『IMD I…
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シリコン基板の温純水洗浄や温純水引き上げ乾燥に適した純水加温装置！
『HDW III』は、半導体製造プロセス/太陽電池製造プロセスにおける シリコン基板、液晶製造プロセスにおけるガラス基板等の洗浄で使用される 超純水を、石英ガラス容器内でカーボンヒーターにより非接…
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最高900℃のクリーン過熱水蒸気の発生が可能！
『Jet II』は、加熱ガス接液部を高純度石英ガラスにすることにより、 金属イオン、TOC等の溶出を極限まで抑えたクリーン加熱ガスを 発生させることができる高温クリーンガス加熱装置です。 ま…
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IPAベーパーレスとマランゴニ対流を利用したIPAミスト直接置換乾燥装置
当社では、長年のIPAベーパー乾燥装置の設計・製造経験並びに多くの事例で 培ったノウハウをつぎ込み、IPAベーパーレスとマランゴニ対流を利用して 鋭意改善を進め開発した「ウォーターマークレス乾燥装…
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極薄Siデバイス製造の乾燥に適したIPAベーパー凝縮置換乾燥装置
当社では、各種半導体・電子デバイス製造プロセスで共通の問題である 基板表面のウォーターマーク発生の抑止をターゲットに、鋭意改善を進め 開発したIPAベーパー乾燥装置をご提案します。 また、本…
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