マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ真空デバイス

多目的、実験用全自動成膜装置。マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ型

マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔは多目的､多金属､実験用イオンスパッタ成膜装置です。電極分離型試料台で試料損傷回避、高速排気・簡易操作で能率的成膜、低価格・コストパフォーマンスの良い機能を持っています。
ＭＳＰ－３０Ｔの後継機として、フルオートコーティング、タッチパネル、レシピ機能などを搭載してパワーアップしました。
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

関連リンク - https://www.shinkuu.co.jp/sputtering-device/msp-40…

基本情報マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ

【主な特徴】
○多目的、実験用成膜装置
○電極分離型試料台で試料損傷回避
○高速排気・簡易操作で能率的成膜
○イオンボンバードで親水性処理機能
○小形卓上型・小スペース
○強磁場による多種金属成膜可能
○TMP+ダイヤフラムポンプで清浄高真空
○低価格・コストパフォーマンスの良い機能

【その他の特徴】
○スパッタし易い貴金属の他､Mo,W,等の重金属からTi､Al等軽金属をターゲットとし､強磁場マグネトロン方式の電極により成膜が出来ます。
○マグネトロン電極は､ターゲット金属表面に沿って外周から中心方向に磁場を作りターゲット全面を有効に利用できます。
○スパッタ雰囲気ガスArは､ターゲット電極とシールド電極の間隙よりターゲット表面に噴出させ､スパッタ効率を向上させています。

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

価格情報	お問い合わせください
価格帯	100万円 ~ 500万円
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型番・ブランド名	ＭＳＰ－４０Ｔ
用途／実績例	【用途】 ○多目的､多金属､実験用イオンスパッタ成膜装置 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。