超薄膜成膜技術　Atomic Layer Deposition ティー・ケイ・エス

R＆D活動および工業規模での量産用に設計！カスタムメイドのリアクターツールを提供しています

原子層堆積（ALD）はCVDの中でも特別なコーティング方法になります。

ALDプロセスにおける補完的で自己制限的な表面反応は、ナノメートル
スケールまで制御された厚さの均一なフィルムと、複雑な3D表面形状への
優れたステップカバレッジを備えたコンフォーマルフィルムを提供。

ALD処理のために、FHR AnlagenbauGmbHは、R＆D活動および工業規模での
量産用に設計されたカスタムメイドのリアクターツールを提供しています。

【コーティング方法】
■少なくとも2つの化学反応物（前駆体）の交互の基板露光によって実行
■最初の1つの前駆体が基板上にフラッシュ
■前駆体は、未反応の表面部位がなくなるまで（飽和）、反応性の表面部位と反応
■最初の前駆体のガス状反応残留物が不活性ガスでパージ
■2番目の前駆体がフラッシュされ再び表面反応が起こり、飽和に達するまで置く
■反応をパージした後、2番目の前駆体の残留物の場合、最初の前駆体を
　フラッシュすることでサイクルを再開

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基本情報超薄膜成膜技術　Atomic Layer Deposition

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取扱企業超薄膜成膜技術　Atomic Layer Deposition

ティー・ケイ・エス株式会社

研究用・製造用真空プロセス機器の輸入販売、保守・延命化のコンサルティング ■半導体・電子デバイス・光学薄膜製造装置等の輸出入販売・保守 ■高密度プラズマソースの輸出入販売・保守 ■有機材料昇華精製装置の輸出入販売・保守 ■イオンビームエッチング・ミリング装置の輸出入販売・保守 ■イオンビームスパッタ装置の輸出入販売・保守