株式会社ティーディーワイ 蒸着材料・ターゲット材料
- 最終更新日：2021-03-24 10:34:36.0
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不純物の少ない高品質な製品をご提供！少量からのご注文も承ります
株式会社ティーディーワイでは『蒸着材料・ターゲット材料』を取り扱って
おります。
「蒸着材料」とは薄膜を製作する技術の一つである真空蒸着法(熱蒸着)で
用いる材料で、一般的にはナノオーダーの薄膜を作るための材料です。
また「ターゲット材料」であるスパッタリングターゲットは、薄膜として
現代社会の様々な分野で使用されており、当社では高品質及び短納期の
ゲルマニウムターゲット及びシリコンターゲットをご提供いたします。
【製品詳細】
＜蒸着材料：Ge蒸着材＞
■Ge粒状D
・純度：6N以上
・寸法：2mm～8mm
■Ge粒状C
・純度：6N以上
・寸法：3mm～6mm
※海外品も取り扱いをしております。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報蒸着材料・ターゲット材料
【製品詳細】
＜ターゲット材料＞
■Geターゲット
・純度：6N以上
・寸法：単結晶 φ2～φ150、多結晶 φ2～φ200
・導電型：N・P・ノンドーブ
■Siターゲット
・純度：4N以上
・製法：CZ法・FZ法
・導電型：P・N
・寸法：単結晶 φ2～φ300
※海外品も取り扱いをしております。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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|---|---|
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| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 |
カタログ蒸着材料・ターゲット材料
取扱企業蒸着材料・ターゲット材料
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●ゲルマニウム 二酸化ゲルマニウム、四塩化ゲルマニウム（光ファイバー用）、 多結晶、単結晶、ウエハー、ペレット、光学用ゲルマニウム、 結晶の製造、加工 ●シリコンその他半導体材料の製造、加工
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