デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』サンユー電子

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜の作製も可能

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。

ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。

金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。

【特長】
■研究開発向けのデスクトップサイズ
■試料サイズ：最大φ2インチ
■膜厚センサー追加可能

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基本情報デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

【製品仕様】
スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式
カソード：φ2インチ×3源/水冷式スパッタアップ
スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付)
到達真空度：10^-4 Pa台
寸法：
　SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm
　RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm
　チャンバーユニット：W370×D540×H400mm
所要電源：AC100V 50/60Hz 15A 1系統 3pinプラグ

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