CO2スプレー洗浄装置ジャパンクリエイト

基板サイズは最大φ12インチ！当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズル使用

『CO2スプレー洗浄装置』は、真空環境での洗浄のため低露点環境で
CO2洗浄ができます。

当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズルを使用。
個体CO2粒子速度と粒子密度の可変ができ、好適な洗浄条件を提案可能です。

マイクロレンズ上のパーティクル除去やスパッタ残渣除去、濡れ性改善に
ご利用いただけます。

【特長】
■当社独自ノズル：CO2ラバージェットノズル使用
■真空環境での洗浄
■ダメージレスドライ洗浄が可能
■基板サイズは最大φ12インチ
■ハンディータイプのスプレーユニット販売可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://japancreate.co.jp/

基本情報CO2スプレー洗浄装置

【洗浄原理】
1.化学的洗浄作用
・液体CO2粒子の化学的特性（溶解性）を利用した有機物除去
2.物理的洗浄作用
・個体CO2粒子の衝突による物理的ブラスト効果を利用した異物除去

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途／実績例	【用途】 ■CCDセンサー：マイクロレンズ上のパーティクル除去 ■MEMS：スパッタ残渣除去、濡れ性改善 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログCO2スプレー洗浄装置

CO2スプレー洗浄装置

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取扱企業CO2スプレー洗浄装置

ジャパンクリエイト株式会社

当社はウエハー洗浄機、エッチング装置、スピンドライヤー等、半導体製造装置を主としたメーカーです。又お客様のニーズに合わせて、研究用の小型機から量産用の自動装置を小回りのきく企業として製造いたします。また、これらの技術を生かしLCD.PDP.有機EL.FED.LED等の洗浄装置も開発製造いたしております。全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。【NEW】流山事業所を開設しました！！(2021年1月1日より) 流山事業所のプラズマプロセス装置事業部は、真空技術及びプラズマ技術に特化した技術者集団です。少数精鋭ながら高い技術力で、お客様の多種多様なニーズに応えて参ります。取扱製品：プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など〒270-0156　千葉県流山市西平井956-1 お問い合わせ　TEL:04-7150-5731 ※アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社(株式会社ユーテック,YOUTEC)からHDD、Siウエハ、ガラス基板、容器向けなどの成膜装置事業を譲り受けました。