多元スパッタリング装置ジャパンクリエイト

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布を実現

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、
金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。

また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、
均一な膜厚分布を実現します。

【特長】
■当社独自のスパッタカソードを搭載
■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を実現
■最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能
■トレイ搬送にも対応
■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://japancreate.co.jp/

基本情報多元スパッタリング装置

【その他の特長】
■基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、均一な膜厚分布を実現
■各種オーダーメイドも製作可能
■デモ機にてサンプル処理を実施

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途／実績例	【用途】 ■半導体 ■MEMS ■電子部品 ■光学部品 ■車載部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログ多元スパッタリング装置

多元スパッタリング装置

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取扱企業多元スパッタリング装置

ジャパンクリエイト株式会社

当社はウエハー洗浄機、エッチング装置、スピンドライヤー等、半導体製造装置を主としたメーカーです。又お客様のニーズに合わせて、研究用の小型機から量産用の自動装置を小回りのきく企業として製造いたします。また、これらの技術を生かしLCD.PDP.有機EL.FED.LED等の洗浄装置も開発製造いたしております。全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。【NEW】流山事業所を開設しました！！(2021年1月1日より) 流山事業所のプラズマプロセス装置事業部は、真空技術及びプラズマ技術に特化した技術者集団です。少数精鋭ながら高い技術力で、お客様の多種多様なニーズに応えて参ります。取扱製品：プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など〒270-0156　千葉県流山市西平井956-1 お問い合わせ　TEL:04-7150-5731 ※アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社(株式会社ユーテック,YOUTEC)からHDD、Siウエハ、ガラス基板、容器向けなどの成膜装置事業を譲り受けました。