物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による
球状 銅（Cu）粉末。
Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く)
サブミクロン～１ｍｍまで、粒度カスタマイズに対応。
原産国：中国
供給可能数量：月産５トン
基本情報サブミクロン～１ｍｍまで 球状 銅（Cu）粉末
■製品スペック(COA : 量産品代表値。)
Cu 純度：≧99.0%(2N)
不純物濃度(ICP-MS)
Fe=21ppm
Al=22ppm
Ni=26ppm
C/O濃度測定（赤外線吸収法）
C=0.4479wt%
O=0.6104wt%
粒度（レーザー回析・散乱法）
D10=0.59 µm
D50=0.88µm
D90=1.39µｍ
比表面積（BET法）
1.40 m2/g
Tap 密度
3.96 g/cm3
＊量産品の測定結果ですが、保証値ではありません。
＊保証スペックについては、契約にて定めます。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※数量によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。 |
| 用途／実績例 | 導電性ぺースト 電極用ペースト 導電性接着剤 |
カタログサブミクロン～１ｍｍまで 球状 銅（Cu）粉末
取扱企業サブミクロン～１ｍｍまで 球状 銅（Cu）粉末
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【事業ミッションと展開方針】 １．先端産業向け必須材料の調達・供給 1) 日本の先端科学技術開発に資する研究開発用材料の調達・供給 ＜重点取扱分野＞ ＊次世代電池材料 ＊パワー半導体材料 ＊放熱材料 ＊３Ｄプリンター材料 ＊ＥＶ軽量化材料 ＊高機能セラミック材料 ＊高機能カーボン材料 2) 日本の先端産業の拡大発展に必須となる量産用基礎資材の調達と サプライチエーンの再構築 ＊自然災害・地政学リスクを踏まえた金属シリコン等の 基礎資材のサプライチエーンの多角化 ２．シリコン材料の研究開発 1) アモルファスシリコンのバルク製造 ＊ＬｉＢ負極用材料として 2) シリコンスラッジ活用の高付加価値化 ＊脱酸素剤を超える用途開発 ３．工場建設コンサルティング・技術支援 ＊金属シリコン製造工場 ＊フェロシリコン製造工場 ＊シリコン粉末製造工場
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