ジャパンクリエイト株式会社 加圧RTA装置
- 最終更新日：2021-09-10 19:27:16.0
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『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応
することができる製品です。
加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、
優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。
半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の
高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。
【特長】
■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減
■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能
■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能
■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
■トレイ搬送にも対応可能
■マルチチャンバ仕様も製作可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報加圧RTA装置
【仕様】
■基板サイズ：最大φ12インチ
■反応ガス：O2 、N2 、 H2O（オプション）
■基板加熱温度：最高1000 ℃（基板表面）
■加熱源：ハロゲンランプ
■昇温レート：最大150 ℃/sec
■真空排気：DP
■制御操作
・制御：PLC
・操作：タッチパネルまたはPC
■データロギング：外部メモリまたはPC
■基板搬送：大気搬送ロボット、冷却ステージ
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■半導体 ■MEMS ■電子部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ加圧RTA装置
取扱企業加圧RTA装置
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当社はウエハー洗浄機、エッチング装置、スピンドライヤー等、半導体製造装置を主としたメーカーです。又お客様のニーズに合わせて、研究用の小型機から量産用の自動装置を小回りのきく企業として製造いたします。また、これらの技術を生かしLCD.PDP.有機EL.FED.LED等の洗浄装置も開発製造いたしております。全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。 【NEW】流山事業所を開設しました！！(2021年1月1日より) 流山事業所のプラズマプロセス装置事業部は、真空技術及びプラズマ技術に特化した技術者集団です。 少数精鋭ながら高い技術力で、お客様の多種多様なニーズに応えて参ります。 取扱製品：プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など 〒270-0156 千葉県流山市西平井956-1 お問い合わせ TEL:04-7150-5731 ※アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社(株式会社ユーテック,YOUTEC)からHDD、Siウエハ、ガラス基板、容器向けなどの成膜装置事業を譲り受けました。
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