Epitaxial-EB蒸着装置ジャパンクリエイト

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に適した製品です。

『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。

基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの
メンテナンスが容易。
リフトオフプロセスにも対応しており、適切な表面処理によりパーティクル
低減させます。

マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。

【特長】
■酸化促進ガス導入機構
■材料酸化防止機構
■最高900℃ の高温プロセスが可能
■ロードロック式による高真空プロセスに対応
■リフトオフプロセスにも対応
■トレイ搬送にも対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://japancreate.co.jp/

基本情報Epitaxial-EB蒸着装置

【仕様】
■基板サイズ：最大φ12インチ
■基板加熱温度：700℃（基板表面）
■蒸着材料：金属または酸化物
■真空排気：CP+DP
■膜厚コントロール：水晶式膜厚センサ
■制御操作
　・制御：PLC
　・操作：タッチパネルまたはPC
■データロギング：外部メモリまたはPC
■基板搬送：真空搬送ロボット
■オプション：基板加熱900℃（基板表面）、基板冷却、基板バイアス、基板回転
　抵抗加熱蒸発源（最大6台）、反応ガス供給ユニットなど

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途／実績例	【用途】 ■LED素子 ■電子部品 ■光学部品 ■MEMS ■パワーデバイス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログEpitaxial-EB蒸着装置

取扱企業Epitaxial-EB蒸着装置

ジャパンクリエイト株式会社

当社はウエハー洗浄機、エッチング装置、スピンドライヤー等、半導体製造装置を主としたメーカーです。又お客様のニーズに合わせて、研究用の小型機から量産用の自動装置を小回りのきく企業として製造いたします。また、これらの技術を生かしLCD.PDP.有機EL.FED.LED等の洗浄装置も開発製造いたしております。全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。【NEW】流山事業所を開設しました！！(2021年1月1日より) 流山事業所のプラズマプロセス装置事業部は、真空技術及びプラズマ技術に特化した技術者集団です。少数精鋭ながら高い技術力で、お客様の多種多様なニーズに応えて参ります。取扱製品：プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など〒270-0156　千葉県流山市西平井956-1 お問い合わせ　TEL:04-7150-5731 ※アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社(株式会社ユーテック,YOUTEC)からHDD、Siウエハ、ガラス基板、容器向けなどの成膜装置事業を譲り受けました。