High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置ジャパンクリエイト

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能！

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により
圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。

単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。
また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、
高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。

当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。

【特長】
■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造
■当社独自のスパッタカソードを搭載
■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能
■トレイ搬送も対応可
■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://japancreate.co.jp/

基本情報High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

【仕様（抜粋）】
■基板サイズ：最大φ12インチ
■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ
■スパッタ電源：RFまたはDC
■プロセスガス：Ar、O2、N2、他
■基板ステージ
　・基板加熱：700℃（基板表面）
　・自転：最高20rpm
■真空排気
　・構成1：TMP+DP
　・構成2：CP+DP
■圧力制御：APC制御

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途／実績例	【用途】 ■半導体 ■MEMS ■電子部品 ■光学部品 ■車載部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログHigh-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

High-Rate Deposition 圧電膜形成スパッタリング装置

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取扱企業High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

ジャパンクリエイト株式会社

当社はウエハー洗浄機、エッチング装置、スピンドライヤー等、半導体製造装置を主としたメーカーです。又お客様のニーズに合わせて、研究用の小型機から量産用の自動装置を小回りのきく企業として製造いたします。また、これらの技術を生かしLCD.PDP.有機EL.FED.LED等の洗浄装置も開発製造いたしております。全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。【NEW】流山事業所を開設しました！！(2021年1月1日より) 流山事業所のプラズマプロセス装置事業部は、真空技術及びプラズマ技術に特化した技術者集団です。少数精鋭ながら高い技術力で、お客様の多種多様なニーズに応えて参ります。取扱製品：プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など〒270-0156　千葉県流山市西平井956-1 お問い合わせ　TEL:04-7150-5731 ※アドバンストマテリアルテクノロジーズ株式会社(株式会社ユーテック,YOUTEC)からHDD、Siウエハ、ガラス基板、容器向けなどの成膜装置事業を譲り受けました。