株式会社アントンパール・ジャパン半導体材料の純度試験微量元素分析の前処理装置

最終更新日：2024-01-09 14:42:15.0
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スパッタリングターゲット、CMPスラリーなど、微量不純物分析の前処理には適切な酸分解が必要です

Multiwave7000
・加圧分解チャンバーを備えたことにより、限られたスペースで、強力にしかも簡単に分解を行います。これまで溶け残ってしまっていたサンプルの分析に最適です。
・チラー内蔵でコンパクト
・スターラー使用可能なため、安定した反応を実現
・金属（貴金属、金属酸化物含む）以外にセラミックス、樹脂など幅広く対応
・「この装置で初めて溶液化できた！」という声を多くいただいております

基本情報半導体材料の純度試験微量元素分析の前処理装置

・横幅：50 cm 高さ：47 cm 奥行：79 cm
・温度：最大300℃ 、圧力：最大199bar、出力：最大2000W
・最大サンプル数:28

CMPスラリー：研磨剤、酸化剤（酸化性物質）、キレート剤、腐食抑制剤
スパッタリングターゲット：アルミニウム、銅、ステンレス、タンタル、ニッケル

価格情報	1000万程度（仕様による）
納期	お問い合わせください ※2, 3ヶ月程度
型番・ブランド名	Multiwave 7000　（マルチウェーブななせん）
用途／実績例	CMPスラリー：研磨剤、酸化剤（酸化性物質）、キレート剤、腐食抑制剤スパッタリングターゲット：アルミニウム、銅、ステンレス、タンタル、ニッケル