株式会社キョウデン 高速厚銅めっき工法 高放熱高周波基板開発

従来叶わなかった量産性、基板信頼性面、薄板対応の課題もクリア

キョウデンの最新技術”高速厚銅めっき工法”
この新技術により高放熱高周波基板を開発しました。

【特長】
♢従来叶わなかった量産性、基板信頼性面、薄板対応の課題もクリア
♢ビルドアップ基板にも使用できる技術
♢5G/6G,パワー半導体部品へ対応◎

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基本情報高速厚銅めっき工法 高放熱高周波基板開発



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用途/実績例 銅インレイで対応困難な0.4mm以下の薄板基盤にも対応可能!
パワー系部品基板、パワー系モジュール基板等、高い放熱性を求められる各種基板。

詳細情報高速厚銅めっき工法 高放熱高周波基板開発

断面・表面写真

カタログ高速厚銅めっき工法 高放熱高周波基板開発

取扱企業高速厚銅めっき工法 高放熱高周波基板開発

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