株式会社ウェルテック マイクロナノインプリント技術のもたらす可能性
- 最終更新日:2022-03-17 12:12:28.0
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マイクロナノインプリントプロセスのトータルコストを削減することで少量多品種に適合させる
ナノインプリントは、数十~数百nmの微細な凹凸形状で形成された
モールドを樹脂材料に押し付けて形状を転写する、機械的な方法による
ナノ構造加工技術です。
フォトリソグラフィと比較して、高価な光学機構が不要であり、
複数の工程を1工程に集約可能。
製造コストが安価であることなどが利点として挙げられます。
このインプリント技術をナノ領域だけでなくマイクロ領域まで
適応することにより、広範囲の分野で適用(研究開発)されています。
【ナノインプリントの利点】
■フォトリソグラフィと比較して、高価な光学機構が不要
■複数の工程を1工程に集約可能であるため、製造コストが安価
■10nm程度の解像度を有しており、3次元構造の凹凸が形成された
モールドにより、一度のプロセスで3次元構造が転写可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報マイクロナノインプリント技術のもたらす可能性
【適用(研究開発)されている分野】
■光学関連:反射防止、偏光、マイクロレンズアレイ、回析格子
■電子デバイス:半導体デバイス、太陽電池
■バイオ・化学:マイクロ流路、バイオチップ
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価格帯 | 100万円 ~ 500万円 |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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