株式会社エイチ・ティー・エル 卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置
- 最終更新日：2023-07-18 09:22:05.0
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テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。
直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。
酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。
4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド
最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度
低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き
試料ステージは直径200mm基板まで選択可能
450℃加熱ステージも選択可能
Arradiance GEMFlowソフトウェアは、
扱いやすく、成膜レシピの作成も簡単に行えます。
温度、ガス流量、高速ALDバルブ、高周波(RF)パワー、
真空隔離など、すべての主要な動作パラメータを制御。
診断システムとログにより、操作中のすべてのシステム・パラメータが追跡可能
RGIP（Reactor Gas Injection Protocol）について
ガスポート監視インターロック機能を備えています。
基本情報卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置
特長
・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適
・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単
・オプションにて簡単にプラズマユニットの取り付けが可能
成膜材料
Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZnO、TiN、 Pt、 Ruなど
詳細はお問い合わせください。
基板
4～8インチ、高さ約25mmまでの構造物
粉体、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能
チャンネル数
最多8種類のプレカーサ装備が可能
チャンバー温度
最高300℃（オプション450℃）
オプション
オゾン発生器、 リモートプラズマ装置、 紛体コーティング治具（量子ドットやナノパーティクルへコーティング）、 Load Lockもございます。
詳細はお問い合わせください。
（成膜サービス（有償）も実施しております。詳細はお問い合わせください。）
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 幅広い成膜材料に対応 Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZrO2、TiN、 Pt、 Ruなど ※詳細成膜材料については、弊社営業部までお問い合わせください。 |
詳細情報卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置
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卓上型サーマル式/プラズマ支援 原子層堆積装置 (ALD/PEALD)
GEMStar XTシリーズ
テーブルトップのコンパクトサイズながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。
直径200mm、高さ約25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。
酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。プラズマ発生ユニット等多彩なオプションを用意。
カタログ卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置
取扱企業卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置
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【装置販売とサービス】 【3DP事業部】 ■3Dプリンタ金属積層造形装置 ■3Dプリンタ金属パウダ 【マスク事業部】 ■半導体製造・検査装置 ■FPD/マスク製造・検査装置 ■MEMS/ LED/ NanoTech製造・検査装置、関連製品 ■原子層堆積装置 (ALD: Atomic Layer Deposition) 【ソフトウェア開発】 ■製造・検査装置など組込機器・システム装置のソフトウエア開発 （オフショア・オンサイト）
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