グローブボックス付　多源RFスパッタ装置ケニックス

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応します！

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。

スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。
UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。

また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。

【特長】
■電池、触媒材料や有機デバイス開発用
■スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結
■UHV対応スパッタカソードを4本装着可能
■酸素や水分を排除したい研究製膜環境
■多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - http://www.kenix.jp/product/spattaring.html

基本情報グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

【仕様（一部）】
■スパッタカソード
　・超高真空対応
　・低ダメージ成膜
　・最大4源搭載可能
■基板ホルダー
　・基板加熱機構（常用800℃、酸化雰囲気対応）
　・基板回転機構（モーター回転）
　・基板昇降機構（ストローク50mm）
　・基板バイアス印加機構　※オプション

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