圧力勾配式スパッタ装置 高品質薄膜を高ルートで形成可能
『PGS model』は低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能なスパッタ装置です。
『PGSモデル』は、圧力勾配現象を採用した画期的なスパッタ装置です。 高真空域でのスパッタ成膜が可能。 また、低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能です。 九州大学・名城大学…
低温材料用蒸着源の評価データ
セレン化ビスマスの安定した結晶成長が得られることを確認しました
ケニックス株式会社では、低温材料を安定蒸発する蒸着源を 用いて、トポロジカル半導体として期待されるセレン化 ビスマスの安定した結晶成長が得られることを確認しました。 RHEEDストリーク、振…
セレン化ビスマスの結晶成長・実験
ラマン分光計測によるピーク確認によりセレン化ビスマスの結晶成長を確認しました
ケニックス株式会社では、高速分子線蒸発源を用いて、セレン化 ビスマスの安定した結晶成長が得られることを確認しました。 RHEEDストリーク、振動の確認とともに、ラマン分光計測による ピーク確…
石英・硬脆材精密加工
石英-SUS接合をはじめ硬脆材料の研削・微細加工などを行っております
ケニックス株式会社では、石英・サファイア・アルミナ等、 硬脆材料の精密加工を受託します。 「パイレックス-SUS接合」をはじめ、「アルミナ微細加工」など 硬脆材料の研削・微細加工・接合を行っ…
プラズマアシストソース
プラズマ機能を付加する製品を設計開発し、革新的なプロセス技術を提案します
『プラズマアシストソース』は、半導体製造プロセス用、 プラズマ応用製品です。 プラズマ機能付加により、反応性を促進することが可能。 また、既存プロセス技術にプラズマ機能を付加する製品を …
半導体向け石英加工
洗浄プロセスに使用される石英槽をはじめ、ご要望に合わせた様々な形状に対応いたします
ケニックス株式会社では、半導体プロセスにおいて 必要不可欠な各種石英製品を高度な技術でご提供します。 石英ガラス製のウエハボートは、縦型・横型をはじめ 小口径向けの石英ハンガー、太陽電池向け…
石英材料
石英板はサイズ、肉厚、仕上げ方法など、ご要望に応じた加工が可能です!
ケニックス株式会社では、半導体の製造プロセスや光学用などで必要な透過性、 耐薬品性、耐熱性にすぐれた様々な石英ガラスを取り揃えております。 石英管は、豊富なサイズバリエーションでご提案が可能。…
【接合・加工技術紹介】石英/ガラス平面接合
強固な接合状態!接合後は火加工、機械加工による剥がれもありません!
当社の『石英/ガラス平面接合』技術は、石英やパイレックス、 テンパックス等のホウケイ酸ガラスを熱と圧力によって直接接合します。 接合後は火加工、機械加工による剥がれもなく、強固な接合状態が得ら…
【接合・加工技術紹介】ガラス-金属接合
用途に応じて材料を任意に選択可能!様々な金属チューブをガラス管に変換できます!
当社の『ガラス-金属接合』技術は、膨張係数の一致したコバール金属と コバールガラスを直接接合することが可能です。 コバール金属を介することで様々な金属チューブをガラス管に変換可能。 開発…
【接合・加工技術紹介】異種金属接合
電子管製造技術にて培われたノウハウを応用!金属を酸化させることなく接合可能です!
当社の保有する接合技術は、還元雰囲気中にて金属を酸化させることなく 接合することを特長としており、これらの技術は電子管製造技術にて培われた ノウハウを応用しております。 開発事例では、セラミ…
超高真空・酸化雰囲気対応基板加熱ヒーター
ヒーターの大型化・任意形状対応、表面処理機構増設、真空装置接続等の対応が可能!
当製品は、制御応答性が高く、ガス放出のきわめて少ない構造の クリーンヒーターです。 試料直接照射加熱、及びホットプレート間接加熱ともに対応可能。 熱容量が小さく、超高真空中・大気圧中・酸…
管状電気炉
発電効率を測定する「燃料電池加熱試験装置」や「固体内イオン移動装置」などをご用意!
当社が取り扱う『管状電気炉』をご紹介します。 「燃料電池加熱試験装置」は、炉体、高真空排気系付き石英炉心管・ガス系・ 電気計測系により構成。試料を常用1000℃で加熱し、H2.O2ガス反応によ…
ウェハー表面改質・精密接合装置
超高真空~加圧雰囲気に任意対応!均一な加熱、加圧機能を備えた接合システム!
当製品は、ウェハーレベルのシリコン、金属、石英、ガラス等を 真空~任意雰囲気で表面改質処理後精密接合する装置です。 4~6インチのウェハーレベル各種ボンディングに対応。 陽極接合、拡散・…
半導体プローブ評価装置
コンパクトでありながら、作業性を向上!電気計測・光学測定可能な装置をご紹介!
当社が取り扱う『半導体プローブ評価装置』をご紹介します。 「有機半導体・EL評価装置」は、高真空から大気圧雰囲気でコンタクト プローブさせた基板を加熱しながら、電気計測・光学測定をすることが可…
液体ソースプラズマCVD装置
小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/S可変機構付き!
当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常…
超高真空マルチチャンバー連結システム
φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹介します!
当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ…
グラフェン結晶薄膜・表面分析装置
MBE成膜機構や表面熱分析機構、RHRRD結晶構造解析システムなどで構成されています!
当製品は、「MBE法」と「表面熱分解法」を併用したグラフェン結晶薄膜 成長機構とRHEED/LEED表面分析機構を連結したinsituシステムです。 6H-SiC微傾斜([1-100]4°of…
グローブボックス内収納型真空蒸着装置
グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を交換・補充可能です!
当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、…
グローブボックス連結型有機蒸着・スパッタ装置
トランスファーロッドにより、各室間を搬送!大気解放することなく連続成膜可能!
当製品は、50×50基板対応で、有機トランジスタ、EL素子用 抵抗加熱蒸着装置、酸化物用RFスパッタ装置をグローブボックスに 連結した装置です。 トランスファーロッドにより、各室間を搬送。 …
グローブボックス連結型有機・金属蒸着装置
基板回転・基板加熱対応のホルダーを搭載!大気解放することなく連続成膜可能!
当製品は、100×100基板に対応した有機・金属蒸着装置です。 マスク交換用にグローブボックスを連結しており、大気解放することなく 連続成膜することが可能。 蒸着源は、抵抗加熱蒸着源、有…
斜入射型蒸着装置
基板入射に対応する円弧型レール上に任意位置で固定可能!蒸着ポジションを調整できます
当製品は、アタッチメントフリーのKセルおよびコニカル型蒸着源を 備えた基板入射角可変型蒸着装置です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整…
3源抵抗加熱蒸着装置
EB源増設ポート付!4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています!
当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特…
3連式電子ビーム蒸着装置
メンテナンス性・作業性が簡便!リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を採用!
当製品は、金属材料を対象とし、リフトオフ成膜可能な電子ビーム蒸着装置です。 3連式EBガンはスライド移動機構により、メンテナンス性・作業性が簡便。 基板寸法は最大φ3インチで、リフトオフ成…
4インチ3源RFスパッタ装置
基板寸法は最大3インチで3枚収納可能!加熱機構・逆スパッタ機構を備えています!
当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード(3基)で、 …
スパッタ・蒸着複合装置
1インチUHV対応スパッタカソード2源!ロードロック室は増設することが可能です!
当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源…
グローブボックス付 多源RFスパッタ装置
酸素や水分を排除したい研究製膜環境!多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応します!
当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多…
薄膜作成コンポーネント
単品試作から用途に合わせて製作可能!「EBガン」や「Kセル」などをラインアップ!
当社の取り扱う『薄膜作成コンポーネント』をご紹介します。 世界最小クラスのUHV対応「マグネトロンスパッタカソード」をはじめ、 ICF70よりマウント可能な「EBガン」やルツボ最小2cc~10…
圧力勾配式スパッタ装置『PGS model』
低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能な装置についてご紹介します
偏光モード変換器(PMC)の小型化と試作設備の開発
製品化に向けた評価用PMCの開発を行うと共に小ロットライン構築
偏光モード変換器(PMC)の小型化と試作設備の開発では、レーザービーム断面に偏光・位相・強度の分布を持つ、ラジアル偏光、アジマス偏光など特殊偏光ビームの関心が高まっています。これらの偏光は光計測、特に…
超高真空1インチ(小型)スパッタカソードの開発と商品化
世界最小クラスのスパッタカソード単品試作から用途に合わせて製作
超高真空1インチ(小型)スパッタカソードは、世界最小クラスで単品試作から用途に合わせて製作します。製品開発の背景には研究装置の小型化、レアメタル材料の使用効率化、高品質化・高再現性・量産応用可能技術へ…
sic表面熱分解法 グラフェン結晶成長装置
熱分解グラフェン成長に適したsic基板加熱機構を装備
sic表面熱分解法 エピタキシャルグラフェン結晶成長装置の設計開発コンセプトは、グラフェン成長装置の小型化と簡易化。高結晶品質化・成長再現性、表面分析機器の増設・連結性と設備投資しやすい経済性です。回…
オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『薄膜作成コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■単品試作から用途に合わせて製作!スパッタカソード ・ヘッド直接…
フィルム連続成膜装置
ロール状フィルムを連続成膜する装置 ■□■特徴■□■ ■スパッタ・EB・抵抗加熱蒸着に対応 ■テンションピックアップフィードバック制御 ■フィルム放出ガス排気用コールドトラップ ■差…
ウェハーレベルのシリコン、金属、石英、ガラス等を、真空〜任意雰囲気で 表面改質処理後精密接合する装置 ■□■特徴■□■ ■4〜6インチのウェハーレベル各種ポンディングに対応 ■任意材料…
基板接合(直接接合・陽極接合・真空封止)
オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『真空封止・接合装置』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■陽極接合・直接接合・熱圧着接合に任意対応 ■ウェハーレベルからチップレベル…
分光・計測
オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『分光・計測』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■顕微レーザーラマン分光 熱に弱い試料安定・高感度に測定 ・微結晶、太陽電池…
表面改良コンポーネント
オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『表面改良コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■172nm真空紫外光によるエキシマ光源 ・低温、ダメージレス処…
石英精密加工製品
オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『石英精密加工製品』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■超精密石英加工 石英など高度脆性材料の精密微細加工製品 最細穴径…
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