ヒーターの大型化・任意形状対応、表面処理機構増設、真空装置接続等の対応が可能！
当製品は、制御応答性が高く、ガス放出のきわめて少ない構造の
クリーンヒーターです。
試料直接照射加熱、及びホットプレート間接加熱ともに対応可能。
熱容量が小さく、超高真空中・大気圧中・酸素雰囲気中での使用ができます。
【特長】
■均一照射が可能なハロゲンランプ
■経済的でエネルギー効率・応答性の高いヒーター
■石英ボディーランプ、高温対応の金属リフレクタ・ベースで構成
■ガス放出が極めて少ない構造
■最高温度900℃（温調測定点、真空中）加熱可能
■非常に制御応答性が高い
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報超高真空・酸化雰囲気対応基板加熱ヒーター
【仕様例（一部）】
■基板加熱ヒーター
・光源：ハロゲンランプ（5本）
・電力：600W×5本
・照射エリア：φ100
・加熱雰囲気：真空及び酸化雰囲気
・ランプ制御：PID制御
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ超高真空・酸化雰囲気対応基板加熱ヒーター
取扱企業超高真空・酸化雰囲気対応基板加熱ヒーター
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