【技術資料】エキシマランプを用いた薄膜製造のプロセスの可能性クォークテクノロジー

「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度についてご紹介

金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の
機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする
ことができます。

この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、
プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の
探索や開発が続けられていくものと考えられます。

そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を
利用した薄膜製造プロセスの可能性について、検討を行った結果を
ご紹介しております。

【掲載内容】
■はじめに
■「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を用いた光CVD法の製膜速度
■おわりに

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - http://www.quark-tec.com/

基本情報【技術資料】エキシマランプを用いた薄膜製造のプロセスの可能性

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
用途／実績例	※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。